Інтерференційна фотолітографія з використанням вакуумного неорганічного фоторезиста / І. З. Індутний, В. І. Минько, П. Є. Шепелявий //
Винахідник і раціоналізатор : наук.-попул., наук. журн. про вітчизн. новіт. розробки, рішення, технологіх та проекти . - . - N 3. - С. 43-47. - Бібліогр. наприкінці ст..
(Шифр в БД В970309/2010/3)
Ключові слова: нанотехнології -- інтерференційна фотолітографія -- дифракційні структури -- хальогенідних фоторезистів -- рельєфні структури -- формування -- інтерференційна маска --
Додаткові точки доступу: